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HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對(duì)晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅，石英，太陽(yáng)能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。

HMDS烘箱專用真空泵，HMDS系統(tǒng)無(wú)油泵較小的噪音 - 一臺(tái)干泵卻擁有較好的真空度，較大的抽速 - 停機(jī)時(shí)間短，維護(hù)成本更低

HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱是涂膠前對(duì)硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使襯底表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性

光伏電池片HMDS處理系統(tǒng)，HMDS預(yù)處理烘箱就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。

HMDS烘箱，太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱適用行業(yè)：MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。